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描述：爆破片改為比例卸荷閥，采用直角高壓針閥，閥門開口垂直于釜蓋，液體取樣殘留少，標配比例卸荷閥，壓力泄放可以重復使用，泄放壓力可調，冷卻塔設計，保證關鍵部件在高溫使用情況下無超溫之憂，保證配件使用壽命。上海巖征儀器，專業(yè)生產各種實驗室設備、實驗室用高壓反應釜、全自動反應釜等，歡迎前來咨詢。
廠商性質
生產廠家更新時間
2023-11-02訪問量
3316| 品牌 | 其他品牌 | 產地類別 | 國產 |
|---|
巖征儀器 實驗室用高壓反應釜是由：特制光源，不銹鋼釜體以及控制系統(tǒng)組成。用于新能源，環(huán)境、新藥研發(fā)領域的高溫高壓光化學催化、合成、降解的中試及放大生產。
巖征儀器 實驗室用高壓反應釜技術特點：
1、光源可按照客戶要求選擇，采用LCD10.1英吋液晶觸摸控制器，光源光電參數(shù)及光化學反應的溫度，攪拌等參數(shù)實時數(shù)字顯示在屏幕上。
2、光源與釜體連接部分采用技術保證耐壓氣密性，國內*。
3、更專業(yè)的光化學釜體生產工藝：釜體包含壓力表、防爆裝置、進氣閥門、取樣閥門，溫度測溫探桿，耐壓光源插入口等，在保證您的生產安全前提下更方便您的操作。
4、采用浸入式光源設計，物料與光源充分接觸，光化學反應釜配備大功率攪拌電機帶動錨式攪拌槳，讓物料能均勻吸收光子能量。
巖征儀器 光化學配置表：
| 型號 | YZ-GHX-HP系列 |
| 光源類型 | 低壓汞燈,高壓汞燈,氙氣燈,鈉燈,led燈,準分子燈 |
| 光源冷卻形式 | 強制水冷，采用強制導流夾套式光源冷阱 |
| 容積 | 5-500L |
| 設計參數(shù) | 設計壓力1mpa,設計溫度：250℃ |
| 攪拌設計 | 采用磁力耦合機械式攪拌，零泄漏，攪拌轉速：0-750轉/分 |
| 控制系統(tǒng) | 一體式控制機柜，上部控制光源，下部分控制反應釜溫度，攪拌 |
| 光源冷卻設備 | 大功率激光冷水機，給光源及冷凝回流提供降溫保證 |
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